光刻胶

高端研发应用平台,为IC、FPD行 业研发更新更全更高端的光刻胶产品提供支持,为现有产品提供全方位的质量控制保障。

光刻胶

PHOTORESIST

公司近 30 年致力于光刻胶产品的研发和生产,光刻胶产品类型覆盖高中低分辨率的 I 线、G 线紫外正性光刻胶、环化橡胶型负性光刻胶、化学增幅型光刻胶、厚膜光刻胶等类型,应用行业涵盖 IC、TFT-array、LED、Touch panel、先进封装等领域。

- 正性光刻胶

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产品简介

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- 负性光刻胶

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