光刻胶

高端研发应用平台，为IC、FPD行 业研发更新更全更高端的光刻胶产品提供支持，为现有产品提供全方位的质量控制保障。

- 超净高纯试剂

半/导/体/制/程/用
超高纯双氧水
超高纯硫酸
超高纯氨水

符合：SEMI Grade5 标准

适用于：14纳米以上集成电路加工工艺

SEMI Grade5 For 14nm and further technology node

产品信息详情

PRODUCTION BASE

品名

双氧水

硫酸

产品应用

广泛应用于半导体前道湿法清洗工艺，包括颗粒、金 属杂质和有机物残留的清洗

应用于半导体前道光刻胶剥离和有机物残留的清洗

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